Ονομασία μάρκας: | ZMSH |
MOQ: | 1 |
Πληροφορίες συσκευασίας: | ενιαίο εμπορευματοκιβώτιο γκοφρετών |
Όροι πληρωμής: | Τ/Τ, |
12 ιντσών σφαιρίδιο SiC σφαιρίδιο Silicon Carbide 300mm 750±25um 4H-N τύπου προσανατολισμός 100 Παραγωγή βαθμός έρευνας
Το αποτύπωμα της πλακέτας SiC 12 ιντσών
Αυτή η πλακέτα 12 ιντσών Silicon Carbide (SiC) έχει σχεδιαστεί για προηγμένες εφαρμογές ημιαγωγών, με διάμετρο 300 mm, πάχος 750±25μm,και με κρυσταλλικό προσανατολισμό τύπου 4H-N με πολυτύπο 4H-SiCΗ πλακέτα παράγεται χρησιμοποιώντας υψηλής ποιότητας τεχνικές κατασκευής για να ανταποκρίνεται στα πρότυπα των ερευνητικών και παραγωγικών περιβάλλοντων.υψηλής θερμοκρασίας, και συσκευές υψηλής συχνότητας, που χρησιμοποιούνται συχνά σε εφαρμογές όπως ηλεκτρικά οχήματα (EV), ηλεκτρονική ισχύος και τεχνολογία RF.Η ανώτερη δομική ακεραιότητα και οι ακριβείς προδιαγραφές των πλακιδίων εξασφαλίζουν υψηλές αποδόσεις στην κατασκευή συσκευών, προσφέροντας βέλτιστες επιδόσεις στην έρευνα και τις βιομηχανικές εφαρμογές.
Διάγραμμα δεδομένων 12 ιντσών SiC wafer
1 2χλμ. Σιδηροσφαιρίδιο πυριτίου (SiC) Προδιαγραφή υποστρώματος | |||||
Αξία | Παραγωγή ZeroMPD Αξία ((Αξία Z) |
Τυποποιημένη παραγωγή Αξία ((Αξία P) |
Αξία ψεύτικη (Τμήμα D) |
||
Διάμετρος | 3 0 0 mm | ||||
Δάχος | 4H-N | 750 μm±15 μm | 750 μm±25 μm | ||
4H-SI | 750 μm±15 μm | 750 μm±25 μm | |||
Προσανατολισμός της πλάκας | Εκτός άξονα: 4,0° προς < 1120 > ± 0,5° για 4H-Ν, στον άξονα: < 0001> ± 0,5° για 4H-SI | ||||
Σφιχτότητα μικροσωλήνων | 4H-N | ≤ 0,4 εκατοστά-2 | ≤ 4cm-2 | ≤ 25 cm-2 | |
4H-SI | ≤ 5cm-2 | ≤ 10 cm-2 | ≤ 25 cm-2 | ||
Αντίσταση | 4H-N | 00,015 έως 0,024 Ω·cm | 0.015~0.028 Ω·cm | ||
4H-SI | ≥1E10 Ω·cm | ≥1E5 Ω·cm | |||
Πρωτογενής επίπεδος προσανατολισμός | {10-10} ±5,0° | ||||
Πρωταρχικό επίπεδο μήκος | 4H-N | Α/Χ | |||
4H-SI | Σημείο | ||||
Αποκλεισμός άκρων | 3 χιλιοστά | ||||
Επικαιροποίηση | ≤ 5 μm/≤ 15 μm/≤ 35 μm/≤ 55 μm | ≤5μm/≤15μm/≤35 □ μm/≤55 □ μm | |||
Ακατέργαστη | Πολωνική Ra≤1 nm | ||||
CMP Ra≤0,2 nm | Ra≤0,5 nm | ||||
Τρύπες στην άκρη από υψηλής έντασης φως Έξι πλάκες με υψηλής έντασης φως Πολυτύποι περιοχών με υψηλή ένταση φωτός Εμφανίσεις άνθρακα Η επιφάνεια του πυριτίου γρατζουνίζεται από το φως υψηλής έντασης |
Κανένα Συγκεντρωτική έκταση ≤ 0,05% Κανένα Συγκεντρωτική έκταση ≤ 0,05% Κανένα |
Συγκεντρωτικό μήκος ≤ 20 mm, μονό μήκος ≤ 2 mm Συγκεντρωτική έκταση ≤0,1% Συγκεντρωτική έκταση ≤ 3% Συγκεντρωτική έκταση ≤ 3% Συγκεντρωτικό μήκος ≤ 1 × διάμετρος πλάκας |
|||
Τσιπάκια με υψηλής έντασης φως | Καμία δεν επιτρέπεται πλάτος και βάθος ≥ 0,2 mm | 7 επιτρέπεται, ≤ 1 mm το καθένα | |||
(ΤΣΔ)Διάσπαση βίδες πεταλμού | ≤500 εκατοστά-2 | Α/Χ | |||
(ΔΕΠ)Διατόπιση του επιπέδου βάσης | ≤1000 εκατοστά-2 | Α/Χ | |||
Sεπιφάνεια iliconΗ μόλυνση από το φως υψηλής έντασης | Κανένα | ||||
Συσκευή | Κασέτα πολλαπλών πλακιδίων ή δοχείο με μία πλακιδιά | ||||
Σημειώσεις: | |||||
1 Τα όρια ελαττωμάτων ισχύουν για ολόκληρη την επιφάνεια της πλάκας, εκτός από την περιοχή αποκλεισμού της άκρης. Οι γρατσουνιές πρέπει να ελέγχονται μόνο στο πρόσωπο Si. 3 Τα δεδομένα εξάρθρωσης προέρχονται μόνο από τεμαχίδια με χαραγμένα KOH. |
Φωτογραφία από 12 ιντσών πλακέτα SiC.
Οι ιδιότητες της πλακέτας SiC 12 ιντσών
Εφαρμογές των πλακών SiC 12 ιντσών
Τα Wafer SiC 12 ιντσών χρησιμοποιούνται κυρίως σε ηλεκτρονικά υψηλής απόδοσης, συμπεριλαμβανομένων των MOSFET ισχύος, διόδων και IGBT, επιτρέποντας την αποτελεσματική μετατροπή ενέργειας σε βιομηχανίες όπωςηλεκτρικά οχήματα,ανανεώσιμες πηγές ενέργειας, καιβιομηχανικά συστήματα ηλεκτροδότησηςΗ υψηλή θερμική αγωγιμότητα, το ευρύ εύρος ζώνης και η ικανότητά του να αντέχει υψηλές θερμοκρασίες το καθιστούν ιδανικό για εφαρμογέςηλεκτρονικά οχήματα,μετατροπείς ισχύος, καισυστήματα ενέργειας υψηλής ισχύος. Χρήση τουσυσκευές ραδιοσυχνοτήτων υψηλής συχνότηταςκαισυστήματα επικοινωνίας μικροκυμάτωνΕίναι επίσης κρίσιμο για τηλεπικοινωνίες, αεροδιαστημικά και στρατιωτικά συστήματα ραντάρ.
Επιπλέον, οι πλάκες SiC χρησιμοποιούνται σεLED και οπτοηλεκτρονικά, που χρησιμεύουν ως υποστρώματα γιαμπλε και υπεριώδεις LEDΗ ανθεκτικότητα του υλικού σε σκληρά περιβάλλοντα επιτρέπει τη χρήση του σεαισθητήρες υψηλής θερμοκρασίας,ιατροτεχνολογικά προϊόντα, καιδορυφορικά συστήματα ενέργειας. Με τον αυξανόμενο ρόλο της στηνέξυπνα δίκτυα,αποθήκευση ενέργειας, καιδιανομή ισχύοςΤο SiC συμβάλλει στη βελτίωση της αποτελεσματικότητας, της αξιοπιστίας και των επιδόσεων σε ένα ευρύ φάσμα εφαρμογών.
Ερωτήσεις και Απαντήσεις για το 12 ιντσών SiC Wafer
Απάντηση: Ένα πλακάκι SiC 12 ιντσών είναι ένα υπόστρωμα από καρβίδιο του πυριτίου (SiC) με διάμετρο 12 ιντσών, που χρησιμοποιείται κυρίως στη βιομηχανία ημιαγωγών, ειδικά για υψηλής ισχύος, υψηλής θερμοκρασίας,και εφαρμογές υψηλής συχνότηταςΤα υλικά SiC χρησιμοποιούνται ευρέως στα ηλεκτρονικά συστήματα ισχύος, τα ηλεκτρονικά συστήματα αυτοκινήτων και τις συσκευές μετατροπής ενέργειας λόγω των εξαιρετικών ηλεκτρικών, θερμικών και μηχανικών τους ιδιοτήτων.
Απάντηση: Τα πλεονεκτήματα μιας πλακέτας SiC 12 ιντσών περιλαμβάνουν: