logo
Καλή τιμή  σε απευθείας σύνδεση

λεπτομέρειες για τα προϊόντα

Created with Pixso. Σπίτι Created with Pixso. προϊόντα Created with Pixso.
υπόστρωμα σαπφείρου
Created with Pixso.

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8 Inch LN Substrate

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8 Inch LN Substrate

Ονομασία μάρκας: ZMSH
Αριθμός μοντέλου: 2//3/4/6/8
MOQ: 2
τιμή: 200 USD
Πληροφορίες συσκευασίας: Καρτόνια προσαρμοσμένα
Όροι πληρωμής: Τ/Τ
Πληροφορίες λεπτομέρειας
Τόπος καταγωγής:
Κίνα
Υλικό:
LiNbO3
Διάμετρος/μέγεθος:
2//3/4/6/8
Γωνία κοπής:
X/Y/Z κλπ.
TTV:
<3>
Υποκλίνεσαι.:
-30<τόξο<30
Δύση.:
< 40μm
Δυνατότητα προσφοράς:
από την περίπτωση
Επισημαίνω:

2 ίντσες νιοβάτη λιθίου στον μονωτή

,

4 ίντσες νιοβάτη λιθίου στον μονωτή

,

8 ιντσών νιοβατικό λιθίου στον μονωτή

Περιγραφή προϊόντων

Δίσκος LNOI (Λιθίου Νιοβικού σε Μονωτή) 2/3/4/6/8 ίντσες Si/LN Υπόστρωμα

Εισαγωγή του Δίσκος LNOI
Οι δίσκοι LNOI (Λιθίου Νιοβικού σε Μονωτή) είναι ένα υπερσύγχρονο υλικό που χρησιμοποιείται στην ανάπτυξη προηγμένων φωτονικών και κβαντικών συσκευών. Αυτοί οι δίσκοι κατασκευάζονται με τη συγκόλληση ενός λεπτού στρώματος λιθίου νιοβικού (LiNbO₃) σε ένα μονωτικό υπόστρωμα, συνήθως πυρίτιο, μέσω εξειδικευμένων διαδικασιών όπως η εμφύτευση ιόντων και η συγκόλληση δίσκων. Οι δίσκοι LNOI κληρονομούν τις εξαιρετικές οπτικές και πιεζοηλεκτρικές ιδιότητες του λιθίου νιοβικού, καθιστώντας τους απαραίτητους για εφαρμογές υψηλής απόδοσης στην ολοκληρωμένη οπτική, τις τηλεπικοινωνίες και τις κβαντικές τεχνολογίες. Αυτό το άρθρο διερευνά τις θεμελιώδεις αρχές, τις βασικές εφαρμογές και τις συχνές ερωτήσεις σχετικά με τους δίσκους LNOI.

 

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 0Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 1

 


 

Αρχή της Κατασκευής Δίσκων LNOI:
Η διαδικασία δημιουργίας δίσκων LNOI είναι πολύπλοκη και περιλαμβάνει αρκετά κρίσιμα βήματα για να διασφαλιστεί η υψηλή ποιότητα και λειτουργικότητα του τελικού προϊόντος. Ακολουθεί μια ανάλυση των βασικών σταδίων:

 

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 2

 

 

  1. Εμφύτευση Ιόντων:
    Η διαδικασία κατασκευής ξεκινά με έναν κρύσταλλο λιθίου νιοβικού. Ιόντα ηλίου (He) υψηλής ενέργειας εμφυτεύονται στην επιφάνεια του κρυστάλλου. Η ενέργεια και το βάθος των ιόντων καθορίζουν το πάχος του στρώματος λιθίου νιοβικού. Αυτή η εμφύτευση ιόντων δημιουργεί ένα εύθραυστο επίπεδο μέσα στον κρύσταλλο, το οποίο μπορεί να διαχωριστεί κατά τα μεταγενέστερα στάδια της διαδικασίας για να αποδώσει μια λεπτή, υψηλής ποιότητας μεμβράνη λιθίου νιοβικού.

  2. Συγκόλληση στο Υπόστρωμα:
    Μόλις ολοκληρωθεί η διαδικασία εμφύτευσης ιόντων, το στρώμα λιθίου νιοβικού (το οποίο έχει αποδυναμωθεί από τα ιόντα) συγκολλάται σε ένα μονωτικό υπόστρωμα, συνήθως πυρίτιο. Αυτό γίνεται με τη χρήση τεχνικών άμεσης συγκόλλησης δίσκων, όπου οι επιφάνειες πιέζονται μεταξύ τους σε υψηλή πίεση και θερμοκρασία. Η προκύπτουσα συγκόλληση σχηματίζει μια σταθερή διεπαφή μεταξύ του λεπτού στρώματος λιθίου νιοβικού και του υποστηρικτικού υποστρώματος.

  3. Ανόπτηση και Διαχωρισμός Στρώματος:
    Μετά τη συγκόλληση, ο δίσκος υποβάλλεται σε μια διαδικασία ανόπτησης, η οποία βοηθά στην αποκατάσταση τυχόν ζημιών που προκλήθηκαν από την εμφύτευση ιόντων. Το στάδιο ανόπτησης προάγει επίσης τον διαχωρισμό του επάνω στρώματος λιθίου νιοβικού από τον κρύσταλλο. Αυτό έχει ως αποτέλεσμα ένα υψηλής ποιότητας λεπτό στρώμα λιθίου νιοβικού στο υπόστρωμα, το οποίο είναι απαραίτητο για τη χρήση του σε διάφορες φωτονικές και κβαντικές εφαρμογές.

  4. Χημική Μηχανική Στίλβωση (CMP):
    Για να επιτευχθεί η επιθυμητή ποιότητα και επιπεδότητα της επιφάνειας, ο δίσκος υποβάλλεται σε Χημική Μηχανική Στίλβωση (CMP). Το CMP εξομαλύνει τυχόν τραχύτητα στην επιφάνεια, διασφαλίζοντας ότι ο τελικός δίσκος πληροί τις αυστηρές απαιτήσεις για χρήση σε φωτονικές συσκευές υψηλής απόδοσης. Αυτό το βήμα είναι κρίσιμο για τη διασφάλιση της βέλτιστης οπτικής απόδοσης και τη μείωση των ελαττωμάτων.


 

Προδιαγραφή του Δίσκος LNOI

 

 

Υλικό Οπτικό Βαθμός LiNbO3 δίσκοι
Curie Θερμοκρασία 1142±0.7℃
Κοπή Γωνία X/Y/Z κ.λπ.
Διάμετρος/Μέγεθος 2”/3”/4”/6"/8”
Ανοχή (±) <0.20 mm ±0.005mm
Πάχος 0.18~0.5mm ή περισσότερο
Πρωτεύον Επίπεδο 16mm/22mm/32mm
TTV <3μm
Κάμψη -30<κάμψη<30
Παραμόρφωση <40μm
Προσανατολισμός Επίπεδο Όλα διαθέσιμα
Επιφάνεια Τύπος Μονής Όψης Στιλβωμένη (SSP)/Διπλής Όψης Στιλβωμένη (DSP)
Στιλβωμένη πλευρά Ra <0.5nm
S/D 20/10
Άκρη Κριτήρια R=0.2mm C-type ή Bullnose
Ποιότητα Χωρίς ρωγμές (φυσαλίδες και εγκλείσματα)
Οπτικό ντοπαρισμένο Mg/Fe/Zn/MgO κ.λπ. για οπτικό βαθμό LN< δίσκοι ανά αίτημα
Δίσκος Επιφάνεια Κριτήρια Δείκτης διάθλασης No=2.2878/Ne=2.2033 @632nm μήκος κύματος/μέθοδος συζεύκτη πρίσματος.
Μόλυνση, Καμία
Σωματίδια c>0.3μ m <=30
Γρατσουνιές, Θραύση Καμία
Ελάττωμα Χωρίς ρωγμές στις άκρες, γρατσουνιές, σημάδια πριονίσματος, λεκέδες
Συσκευασία Ποσότητα/Κουτί δίσκων 25 τεμάχια ανά κουτί

 


 

Εφαρμογές των Δίσκων LNOI:
Οι δίσκοι LNOI χρησιμοποιούνται σε διάφορους τομείς, ιδιαίτερα σε εκείνους που απαιτούν προηγμένες ιδιότητες υλικών για φωτονικές, κβαντικές και υψηλής ταχύτητας εφαρμογές. Παρακάτω είναι οι βασικοί τομείς όπου οι δίσκοι LNOI είναι απαραίτητοι:

 

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 3

  1. Ολοκληρωμένη Οπτική:
    Οι δίσκοι LNOI χρησιμοποιούνται ευρέως στην ολοκληρωμένη οπτική, όπου χρησιμεύουν ως η βάση για φωτονικές συσκευές όπως διαμορφωτές, κυματοδηγοί και συντονιστές. Αυτές οι συσκευές είναι ζωτικής σημασίας για τον χειρισμό του φωτός σε επίπεδο ολοκληρωμένου κυκλώματος, επιτρέποντας τη μετάδοση δεδομένων υψηλής ταχύτητας, την επεξεργασία σήματος και προηγμένες οπτικές εφαρμογές.

  2. Τηλεπικοινωνίες:
    Οι δίσκοι LNOI διαδραματίζουν ζωτικό ρόλο στις τηλεπικοινωνίες, ιδιαίτερα στα οπτικά συστήματα επικοινωνίας. Χρησιμοποιούνται για τη δημιουργία οπτικών διαμορφωτών, οι οποίοι είναι απαραίτητα εξαρτήματα για δίκτυα οπτικών ινών υψηλής ταχύτητας. Οι εξαιρετικές ηλεκτρο-οπτικές ιδιότητες του LNOI επιτρέπουν την ακριβή διαμόρφωση του φωτός σε υψηλές συχνότητες, κάτι που είναι απαραίτητο για τα σύγχρονα συστήματα επικοινωνίας.

  3. Κβαντική Υπολογιστική:
    Οι δίσκοι LNOI είναι ένα ιδανικό υλικό για κβαντικές τεχνολογίες λόγω της ικανότητάς τους να δημιουργούν ζεύγη συσχετισμένων φωτονίων, τα οποία είναι απαραίτητα για την κατανομή κβαντικού κλειδιού (QKD) και την κβαντική κρυπτογραφία. Η ενσωμάτωσή τους σε κβαντικά υπολογιστικά συστήματα επιτρέπει την ανάπτυξη προηγμένων φωτονικών κυκλωμάτων, τα οποία είναι κρίσιμα για το μέλλον της κβαντικής υπολογιστικής και των τεχνολογιών επικοινωνίας.

  4. Τεχνολογίες Αισθητήρων:
    Οι δίσκοι LNOI χρησιμοποιούνται επίσης σε οπτικές και ακουστικές εφαρμογές αισθητήρων. Η ικανότητα των δίσκων να αλληλεπιδρούν τόσο με το φως όσο και με τον ήχο τους καθιστά πολύτιμους για αισθητήρες που χρησιμοποιούνται στην ιατρική διάγνωση, την περιβαλλοντική παρακολούθηση και τις βιομηχανικές δοκιμές. Η υψηλή ευαισθησία και σταθερότητά τους εξασφαλίζουν ακριβείς μετρήσεις, καθιστώντας τους απαραίτητους σε αυτούς τους τομείς.


 

Συχνές ερωτήσεις του Δίσκος LNOI

  1. Από τι είναι κατασκευασμένοι οι δίσκοι LNOI;
    Οι δίσκοι LNOI αποτελούνται από ένα λεπτό στρώμα λιθίου νιοβικού (LiNbO₃) συγκολλημένο σε ένα μονωτικό υπόστρωμα, συνήθως πυρίτιο. Το στρώμα λιθίου νιοβικού παρέχει εξαιρετικές οπτικές και πιεζοηλεκτρικές ιδιότητες, καθιστώντας το ιδανικό για διάφορες εφαρμογές υψηλής απόδοσης.

  2. Πώς διαφέρουν οι δίσκοι LNOI από τους δίσκους SOI;
    Ενώ και οι δίσκοι LNOI και SOI αποτελούνται από μια λεπτή μεμβράνη συγκολλημένη σε ένα μονωτικό υπόστρωμα, το LNOI χρησιμοποιεί λιθίου νιοβικό ως υλικό λεπτής μεμβράνης, ενώ οι δίσκοι SOI χρησιμοποιούν πυρίτιο. Το λιθίου νιοβικό προσφέρει ανώτερες μη γραμμικές οπτικές ιδιότητες, οι οποίες καθιστούν τους δίσκους LNOI πιο κατάλληλους για εφαρμογές όπως η κβαντική υπολογιστική και η προηγμένη φωτονική.

  3. Ποια είναι τα κύρια οφέλη από τη χρήση δίσκων LNOI;
    Τα κύρια οφέλη των δίσκων LNOI περιλαμβάνουν τους υψηλούς ηλεκτρο-οπτικούς συντελεστές τους, οι οποίοι επιτρέπουν την αποτελεσματική διαμόρφωση του φωτός, καθώς και τη μηχανική τους αντοχή, η οποία εξασφαλίζει σταθερότητα κατά τη λειτουργία της συσκευής. Αυτές οι ιδιότητες καθιστούν τους δίσκους LNOI ιδανικούς για εφαρμογές οπτικής και κβαντικής υψηλής ταχύτητας.

 

Σχετικά προϊόντα

 

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 4

Λιθίου Νιοβικού (LiNbO3) Κρύσταλλο EO/PO Εξαρτήματα Τηλεπικοινωνιών Άμυνας​ Υψηλής Συχνότητας SAW

 

Το LNOI Wafer Lithium Niobate On Insulator 2/3/4/6/8  Inch LN Substrate 5

SiC-on-Insulator SiCOI Υποστρώματα Υψηλής Θερμικής Αγωγιμότητας Ευρείας Ζώνης