| Ονομασία μάρκας: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| τιμή: | by case |
| Πληροφορίες συσκευασίας: | προσαρμοσμένα χαρτοκιβώτια |
| Όροι πληρωμής: | T/T |
Τα πλακάκια πυριτίου που έχουν επικάλυψη Ti/Cu με μέταλλο παρασκευάζονται με την εναπόθεση ενόςστρώμα προσκόλλησης από τιτάνιο (Ti)που ακολουθείται απόΔιοχετικό στρώμα χαλκού (Cu)σε υποστρώματα υψηλής ποιότητας που χρησιμοποιούνΤυποποιημένο σπυττάρισμα μαγνητρονίωνΤο στρώμα Ti βελτιώνει την προσκόλληση του φιλμ και τη σταθερότητα της διεπαφής, ενώ το στρώμα Cu παρέχει εξαιρετική ηλεκτρική αγωγιμότητα.Περιοχές αντοχής, και πάχους ταινιών είναι διαθέσιμα, με πλήρη προσαρμογή που υποστηρίζεται για έρευνα και βιομηχανική πρωτότυπη.
![]()
Φωτογραφική στοίβα: Υποστρώμα +στρώμα προσκόλλησης (Ti)+στρώμα επικάλυψης (Cu)
Διαδικασία κατάθεσηςΤύπος:Ρίπανση μαγνητρονίου(προαιρετικά: θερμική εξάτμιση / ηλεκτροπληγήση κατόπιν αιτήματος)
Βασικά χαρακτηριστικά: Δυνατή προσκόλληση, χαμηλή αντίσταση της επιφάνειας, κατάλληλη για μεταγενέστερη λιθογραφία, ηλεκτροπληγή ή κατασκευή συσκευών.
![]()
| Άρθρο | Προδιαγραφή / Επιλογές |
|---|---|
| Μέγεθος πλάκας | 2", 4", 6", 8"; 10×10 mm κομμάτια· οποιοδήποτε μέγεθος εξατομικευμένο διαθέσιμο |
| Τύπος αγωγιμότητας | Τύπος P, τύπος N, εσωτερική υψηλή αντίσταση (Un) |
| Κρυστάλλινος προσανατολισμός | < 100>, < 111> κλπ. |
| Αντίσταση | Χαμηλά: < 0,0015 Ω·cm· Μέσα: 1 ∆10 Ω·cm· Υψηλά: > 1000 ∆10000 Ω·cm |
| Δάχος υποστρώματος (μm) | 2": 200 / 280 / 400 / 500 / όπως απαιτείται; 4": 450 / 500 / 525 / όπως απαιτείται; 6": 625 / 650 / 675 / όπως απαιτείται; 8": 650 / 700 / 725 / 775 / όπως απαιτείται |
| Υλικό υποστρώματος | Σιλικόνιο (Si), προαιρετικά: χαλαζία, γυαλί BF33, κλπ. |
| Δομή στοίβας | Υποστρώμα + στρώμα προσκόλλησης Ti + επικάλυψη Cu |
| Μέθοδος αποθέσεως | Δοκιμαστικό σύστημα: Δοκιμαστικό σύστημα |
| Διαθέσιμες μεταλλικές ταινίες (σειρές) | Ti/Cu, επίσης διαθέσιμο: Au, Pt, Al, Ni, Ag κλπ. |
| Μονάδα: | 10 nm, 50 nm, 100 nm, 150 nm, 300 nm, 500 nm, 1 μm κλπ. (προσαρμόσιμα) |
Ωμικές επαφές και ηλεκτρόδια: αγωγικά υποστρώματα, πλακέτες επαφής, ηλεκτρικές δοκιμές
Τάξη σπόρων για ηλεκτροπληγήση: RDL, μικροδομές, διεργασίες ηλεκτροπληγήσης MEMS
Έρευνα για τα νανοϋλικά και τις λεπτές ταινίες: υποστρώματα sol·gel, ανάπτυξη και χαρακτηρισμός νανοϋλικών
Μικροσκόπηση και μετρολογία με ανιχνευτές: SEM, AFM και άλλες εφαρμογές μικροσκόπησης με ανιχνευτή σάρωσης
Βιοχημικές πλατφόρμες: κυτταρική καλλιέργεια, μικροκατάταξη πρωτεϊνών/DNA, υποστρώματα ρεφλεκτομετρίας, πλατφόρμες αισθητήρα
Εξαιρετική προσκόλλησηΕνεργοποιημένο από ενδιάμεσο στρώμα Ti
Υψηλή αγωγιμότητακαι ομοιόμορφη επιφάνεια Cu
Ευρεία επιλογήμεγέθους πλακών, εύρους αντίστασης και προσανατολισμού
Ευέλικτη προσαρμογήγια το μέγεθος, το υπόστρωμα, την ταινία και το πάχος
Σταθερή, επαναληπτή διαδικασίαχρησιμοποιώντας ώριμη τεχνολογία ψεκασμού
Ε: Γιατί χρησιμοποιείται ένα στρώμα Ti κάτω από την επικάλυψη Cu;
Α: Το τιτάνιο λειτουργεί ωςστρώμα προσκόλλησης, βελτιώνοντας την προσκόλληση του χαλκού στο υπόστρωμα και βελτιώνοντας τη σταθερότητα της διεπαφής, γεγονός που συμβάλλει στη μείωση της αποφλούδισης ή της αποστρώσεως κατά τη μεταχείριση και την επεξεργασία.
Ε2: Ποια είναι η τυπική διαμόρφωση πάχους Ti/Cu;
Α: Οι συνηθισμένοι συνδυασμοί περιλαμβάνουν:Ti: δεκάδες nm (π.χ. 1050 nm)καιCu: 50 ∼ 300 nmΣυχνά επιτυγχάνονται παχύτερα στρώματα Cu (επίπεδο μm) μεηλεκτροπληκτισμός σε στρώμα σπόρων Cu που έχει υποστεί ψεκασμό, ανάλογα με την αίτησή σας.
Ε3: Μπορείτε να καλύψετε και τις δύο πλευρές της πλάκας;
Α: Ναι.Επικάλυψη μονομερούς ή διμερούςΠαρακαλούμε να προσδιορίσετε τις απαιτήσεις σας κατά την παραγγελία.